聚四氟乙烯薄膜及其制備方法和應用技術，具有高光透過和疏水功能。類聚合物薄膜的發(fā)展可以追溯到20世紀60年代末，該類薄膜可用于低摩擦涂層、介電膜和光學涂層等領域。其中，氟碳聚合物作為一種重要的高分子材料，具有優(yōu)異的耐腐蝕性、低介電性、自潤滑性、低表面能及優(yōu)異的化學穩(wěn)定性、不粘、疏水等特點。聚四氟乙烯是一種含有碳和氟的高分子材料，具有較高的機械強度、熱和化學穩(wěn)定性以及優(yōu)異的絕緣性能。由于其具有上述優(yōu)點，聚四氟乙烯薄膜被廣泛應用于許多領域，如：建筑窗的防污染涂層、疏水面料等。但是，由于聚四氟乙烯薄膜具有良好的化學穩(wěn)定性，使其不溶于任何溶劑和其他材料的附著力較差，通常用于制備薄膜的方法，如旋轉噴涂法，很難應用于制備聚四氟乙烯薄膜。為此，研究人員開始了大量的工作來解決這個問題。目前，已經(jīng)發(fā)展了許多用于制備聚四氟乙烯薄膜的CVD和PVD技術，如磁控濺射、激光燒蝕、離子束和PECVD，是目前合成這種薄膜常用的方法。其中，磁控濺射技術具有低溫沉積、附著力好、沉積率高、化學成分可調等諸多優(yōu)點。早在1852年，英國W.Grove就在放電中觀察到從陰及上飛濺出來的物質就被污染在管壁上。自1870年以來，人們一直在使用這種現(xiàn)象來制備薄膜。飛濺技術被稱為高速、低溫飛濺技術，廣泛應用于電力、機械行業(yè)，其工藝簡單，節(jié)省時間，環(huán)境友好，薄膜結構對大多數(shù)基礎附著力都是一致的。磁控飛濺法是在20世紀70年代，在射頻飛濺的基礎上發(fā)展起來的一種飛濺涂層法。在射頻飛濺裝置的基礎上，電及結構得到了改 善，通常是在靶的陰及上。